シリル系保護基

シリル化はOHの保護に使用される代表的な手法である。脱保護は酸によって行われる。 かさ高い保護基ほど安定で脱離しにくく、逆にかさの小さいものは安定性が低い代わりに脱離が容易である。 TBSはよく使われるシリル化剤であるが、第二級OHにおいての脱保護は条件が厳しいため注意が必要である。